MTI Corporation GSL1100X, katı hal fiziği, yarıiletken teknolojisi ve malzeme sentezi araştırmalarında; küçük ölçekli numunelerin, toz bileşiklerin veya altlıklar üzerine kaplanmış ince filmlerin kontrollü atmosfer (argon, azot, hidrojen vb.) veya vakum altında 1100°C'ye kadar hassas bir şekilde ısıl işleme (annealing) tabi tutulması ve sinterlenmesi amacıyla tasarlanmış kompakt bir laboratuvar cihazıdır. Yüksek saflıkta kuvars tüpü, çift cidarlı çelik gövdesi ve entegre PID sıcaklık kontrolörü sayesinde 30 basamağa kadar ısıtma/soğutma programlamasına olanak tanıyan cihaz; özellikle yarıiletken kristal kalitesinin artırılması, oksit tabakalarının termal büyümesi, MOS (Metal-Oksit-Yarıiletken) arayüzeylerindeki ısıl gerilimlerin giderilmesi ve malzemelerin kontrollü termal döngüler altındaki faz geçişlerinin incelenmesi için kararlı ve güvenilir bir termal ortam sağlar.
