Termal Kimyasal Buhar Biriktirme Sistemi (Thermal Chemical Vapor Deposition - T-CVD)
OptoSense Termal CVD sistemi, katı hal fiziği, yarıiletken teknolojisi ve nanoteknoloji araştırmalarında; gaz fazındaki öncül (precursor) maddelerin yüksek sıcaklık altında kimyasal reaksiyona girmesi ve ayrışması yoluyla, silikon gofretler veya farklı altlıklar üzerine nano/mikron kalınlığında yüksek saflıkta ve homojen ince filmler, kristal katmanlar, karbon nanotüpler veya iki boyutlu malzemeler (grafen vb.) büyütmek amacıyla kullanılan ileri düzey bir üretim ve kaplama cihazıdır. Sıcaklık, vakum, gaz akış hızları (kütle akış kontrolörleri - MFC yardımıyla) ve reaksiyon süresi gibi parametrelerin hassas bir şekilde kontrol edildiği cihaz; özellikle MOS (Metal-Oksit-Yarıiletken) yapılarının yalıtkan/yarıiletken arayüzey katmanlarının atomik kalitede üretilmesinde, yüksek kristal kalitesine ve düşük arayüzey tuzak yoğunluğuna sahip fonksiyonel filmlerin sentezlenmesinde kritik bir role sahiptir.
